型 号（Model）: ABM/6/350/NUV/DCCD/M
生产商（Manufacturer): ABM Inc.
用 途（Applicatio）:
用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准，然后曝光，将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上。
Used for aligning masks on wafers with photo-resist.
主要参数（Main Parameters):
Source：350W NUV Hg lamp，365nm，400nm，436nm
Uniform Beam Size：6""diamater area
Beam Uniformity：±1-2% over 2""diamater area
±2-3% over 4""diamater area
±3-5% over 6""diamater area
Mask Size：3"" and 5""
Wafer Size：2"" and 4""
Exposure Mode: Soft contact
Hard contact
Vacuum contact
Proximity gap
Best resolution: 0.6 micrometer
Exposure Time: 0.1-999.9 adjustable
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