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JGP450型高真空溅射系统
时间：2013-11-28 字体大小：
 型号（Model）：JGP450

生产商（Manufacturer）：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司

用途（Applications）：用于氧化物以及金属薄膜的制备（To fabricate oxide and metal thin films）

主要参数（Main Parameters）： 
极限真空度（Ultimate pressure）：6×10-6 Pa
最高加热温度（Substrate temperature）：～800 °C
 
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