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科研设备
a.jpg 探针台-半导体参数测量仪
型 号(Model): PM5+Keithley 4200 SCS

生产商(Manufacturer): SUSS+Keithley

用 途(Applicatio): 用于半导体参数及器件特性测试(To measure the parameters of semiconductors and devices)

主要参数(Main Parameters): 
I-V measurement: 0.1fA~100mA; 1mV~200V; 4 SMU unit
C-V measurement: 20Hz ~2MHz
Hall...
a.jpg JGP450型高真空溅射系统
型号(Model):JGP450

生产商(Manufacturer):中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司

用途(Applications):用于氧化物以及金属薄膜的制备(To fabricate oxide and metal thin films)

主要参数(Main Parameters): 
极限真空度(Ultimate pressure):6×10-6 Pa
最高加热温度(Substrate temperature):...
a.jpg 紫外光刻机
型 号(Model): ABM/6/350/NUV/DCCD/M

生产商(Manufacturer): ABM Inc.

用 途(Applicatio): 
用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准,然后曝光,将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上。
Used for aligning masks on wafers with photo-resist.

主要参数(Main Parameters): 
Source:350W NUV Hg lamp,365nm,400nm,...
a.jpg 光谱型椭偏仪
型 号(Model): M-2000DI
生产商(Manufacturer): J.A.Woollam Co.,Inc.
用 途(Applicatio): 
单层或多层薄膜的厚度和光学常数的测定. 
Used for measuring the thickness and optical constants of transparent or semi-transparent single film or multilayer.

主要参数(Main Parameters): 
波长范围(Wavelength...
aa.png 高精度平面研磨机
厂商:舟山盛兴机械有限公司
型号:MS-6Sj型
技术参数:
   研磨盘尺寸:Φ380*Φ140*25
最大加工物径:Φ112mm
最小加工物厚:0.1mm
  加工精度: 平面度 0.001mm
             厚度差 0.003mm
表面粗糙度 0.2μm