5月28日，香港理工大学戴吉岩教授应邀做客宁波材料所,做了题为 “Interfacial structure and Electrical Properties in Oxide Thin Film Heterostructures”的学术报告。宁波材料所副所长李润伟研究员主持报告会，磁电子材料与器件研究室相关人员参加了报告会。

       戴吉岩教授从LaAlO和SrTiO界面处二维电子气的发现讲起，深入浅出的介绍了这种界面二维电子气体系中，界面应力和LAO的表面状态对其输运性质的影响，并展示了极性液体和金属纳米颗粒诱导的巨大的光电流效应，及其在传感器方面的潜在应用。

报告人简介：

      戴吉岩，香港理工大学应用物理系教授，主要从事纳米材料的制备及应用，尤其关注功能氧化物薄膜和器件。1988年本科毕业于复旦大学，1991年硕士毕业于清华大学，1994年博士毕业于中科院金属所。美国西北大学3年博士后经历，新加坡材料研究工程院一年工作经历，随后加入新加坡特许半导体制造有限公司，2001年加入香港理工大学。